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原子层沉积系统

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原子层沉积系统
原子层沉积系统概述

原子层沉积系统是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。原子层沉积系统是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(澳门网上娱乐)。当前驱体达到沉积基体表面,它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。原子层沉积的表面反应具有自限制性,实际上这种自限制性特征正是原子层沉积澳门网上娱乐的基础。不断重复这种自限制反应就形成所需要的薄膜。原子层沉积澳门网上娱乐由于其沉积参数的高度可控型(厚度,成份和结构),优异的沉积均匀性和一致性使得其在微纳电子和纳米材料等领域具有广泛的应用潜力。

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原子层沉积设备 P-300 Pro

原子层沉积设备 P-300 Pro

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-300 Pro
  • 产地:芬兰
  • 原子层沉积设备 P- 300 Pro 生产线上的澳门网上娱乐是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN P系列Pro 和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN的 ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和最短的停机时间。原子层沉积设备 P-300 Pro 工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。从原子层沉积设备 P-300 Pro 系列ALD上获得的用户数据(300mm晶圆),显示了卓越的薄膜性能。材料 不均匀性(1σ) 电学性能 ) FT (膜厚) VBD(击穿电压Rs (膜层电阻) Rs(膜层电阻) Al2O3FT 0.90 % VBD > 8 MV/cm HfO2 FT 0.35 %VBD > 3.5 MV/cm, 取决于工艺 ZrO2 FT 0.50 %取决于工艺 TiN Rs 2.39 %Rs 77.4 Ω/sq原子层沉积设备 P-300 Pro 澳门网上娱乐指标衬底尺寸和类型:最大300mm晶圆/单片工艺温度: 50 - 500 °C 基片传送选件: 半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现 25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette), 用PICOPLATFORM 300集群系统实现标准SEMI S2认证前驱体 液态,固态,气态,臭氧源等离子体(仅供200mm晶圆使用,最多4路气体)前驱源余量传感器,并提供清洗和 装源服务 6条独立源管线,最多加载8个前驱体源(最多12个前驱体源,加上plasma管路共7根独立源管线)重量820 kg尺寸(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm 选件集群工具,PICOFLOW扩散增强,N2发生器,尾气处理,定制设计,与工厂软件连接服务。原子层沉积设备 P-300 Pro 验收标准 标准设备验收标准为Al2O3工艺,其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如: - 不均匀性 - 颗粒物含量 - 重金属污染 - 电学性能

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原子层沉积澳门网上娱乐 PICOSUN™ P-300 Advanced

原子层沉积澳门网上娱乐 PICOSUN™ P-300 Advanced

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: PICOSUN™ P-300 Advanced
  • 产地:芬兰
  • 原子层沉积澳门网上娱乐 PICOSUN P-300 Advanced介绍Picosun 300mm生产线上的澳门网上娱乐是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN P系列Pro 和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN的 ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。工艺咨询和开发,产能提升,维护保养流程和系统及工艺的故障排除,我们客户化定制的PICOSUPPORT综合解决方案24小时快速响应,随时待命。在购买之前,我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。原子层沉积澳门网上娱乐 PICOSUN P-300 Advanced应用案例:集成电路组件 微机电系统? 氧化物间隔层 ? 扩散阻挡层? 间聚介质? 耐磨涂层? 高K栅介质 ? 电荷耗散层? 隧穿氧化物薄膜 ? 导热层? 氧化物阻挡层 ? 导电种子层? 钝化层? 刻蚀阻挡层? 间隙填充层 ? 电绝缘层 ?覆盖层 ? 防摩擦层? 铜阻挡层和种子层? 防粘着层? 粘附层 ? 光学薄膜? 扩散阻挡层 ? 生物兼容层?电极 ? 密封层 ? 金属化 ? 纳米孔封堵层其他: 显示? 晶体管 ? 钝化? 电容器 ? 透明导电薄膜? 存储器 ? 绝缘层? 读写磁头原子层沉积澳门网上娱乐 PICOSUN P-300 Advanced 澳门网上娱乐参数衬底尺寸和类型 : 最大300mm晶圆/单片工艺温度:50 - 500 °C 基片传送选件 半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现 25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to- cassette),用PICOPLATFORM 300集群系统实现标准 SEMI S2认证前驱体液态,固态,气态,臭氧源等离子体(仅供200mm晶圆使用,最多4路气体)前驱源余量传感器, 并提供清洗和装源服务 6条独立源管线,最多加载8个前驱体源(最多12个前驱体源,加上plasma管 路共7根独立源管线)重量820 kg尺寸(W x H x D)160 cm x 80 cm x 240 cm 选件 集群工具,PICOFLOW扩散增强,N2发生器,尾气处理,定制设计,与工厂软件连接服务。验收标准 标准设备验收标准为Al2O3工艺,其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如: - 不均匀性- 颗粒物含量 - 重金属污染 - 电学性能

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PICOSUN™ ALD R-200 Standard

PICOSUN™ ALD R-200 Standard

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: PICOSUN™ R-200 Standard
  • 产地:芬兰
  • PICOSUN R系列ALD澳门网上娱乐能够沉积高质量薄膜,即使衬底结构十分复杂,如多孔材料、高深宽比的沟槽或者纳米颗粒, 沉积的薄膜均匀性也极其优异。Picosun功能强大、易更换的固、液、气态前驱体输运系统确保可以在硅平面基片,3D复杂基片及所有纳米尺度的特征器件上制备无颗粒的薄膜。PICOSUN R系列沉积系统独特的扩展性使得科研成果很容易向生产型的PICOSUN P系列平稳转换。澳门网上娱乐参数衬底尺寸和类型50 200 mm /单片最大可沉积直径150 mm基片,竖直放置,10-25片/批次(根据工艺)156 mm x 156 mm 太阳能硅片3D 复杂表面衬底粉末与颗粒多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品工艺温度50 500 °C, 可选更高温度基片传送选件气动升降(手动装载)预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )前驱体液态、固态、气态、臭氧源4根独立源管线,最多加载6个前驱体源重量350 kg尺寸 (W x H x D)取决于选件最小146 cm x 146 cm x 84 cm最大189 cm x 206 cm x 111 cm选件PICOFLOW扩散增强器,集成椭偏仪,QCM, RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载)。验收标准标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

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PICOSUN  P-1000 Pro原子层沉积澳门网上娱乐

PICOSUN P-1000 Pro原子层沉积澳门网上娱乐

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-1000 Pro
  • 产地:芬兰
  • PICOSUN P-1000 Pro原子层沉积澳门网上娱乐 介绍高产量的批量型工业用ALD系统各种先进的批量澳门网上娱乐装载及自动化选项 ALD澳门网上娱乐可以覆盖各种形状、各种表面的样品,可以覆盖最细小的地方,最难到达的地方。具有高度的保形性、均一性及100%无针孔。这使得ALD可以应用于各种行业里,实现各种表面的保护。ALD薄膜可以附着在各种表面上,例如金属,玻璃,塑料,乃至纤维及粉末。作为气相、低温的沉积澳门网上娱乐,ALD薄膜可以生长在非常敏感的表面上,例如聚合物薄膜。今天,Picosun的ALD澳门网上娱乐应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色,防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜澳门网上娱乐挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域,ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。PICOSUN P-1000 Pro原子层沉积澳门网上娱乐 澳门网上娱乐参数衬底尺寸和类型450mm晶圆40片/批次300mm晶圆80片/批次200mm晶圆12 x 25片/批次156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背)高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背)3D 复杂表面衬底多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品工艺温度50 500 °C基片传送选件气动升降(手动装载)工业机器人装载前驱体液态、固态、气态、臭氧源源瓶容量传感器,并提供清洗和装源服务8根独立源管线,最多加载12个前驱体源重量2000 kg尺寸(W x H x D)230 cm x 270 cm x 125 cm选件集群工具,PICOFLOW 扩散增强器,QCM,RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载),与工厂软件连接服务。验收标准标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,其他工艺可具体协商:其他工艺、应用特别验收标准如:--不均匀性--颗粒物含量--重金属污染--电学性能PICOSUN P-1000 Pro原子层沉积澳门网上娱乐 实验数据:客户使用 PICOSUN ALD 设备在150mm和200mm(6“和8”) Si基片上所沉积薄膜厚度均匀性数据。 材料 非均匀性(1σ) AI2O3 (batch) 0.13 % SiO2 (batch) 0.77 % TiO2 0.28 % HfO2 0.47 % ZnO 0.94 % Ta2O51.0 % TiN1.10 % CeO21.52 % Pt3.41 %

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PICOSUN™ ALD  R-200 Advanced

PICOSUN™ ALD R-200 Advanced

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: PICOSUN™ R-200 Advanced
  • 产地:芬兰
  • PICOSUN R系列ALD澳门网上娱乐能够沉积高质量薄膜,即使衬底结构十分复杂,如多孔材料、高深宽比的沟槽或者纳米颗粒, 沉积的薄膜均匀性也极其优异。Picosun功能强大、易更换的固、液、气态前驱体输运系统确保可以在硅平面基片,3D复杂基片及所有纳米尺度的特征器件上制备无颗粒的薄膜。PICOSUN R系列沉积系统独特的扩展性使得科研成果很容易向生产型的PICOSUN P系列平稳转换。澳门网上娱乐参数衬底尺寸和类型50 200 mm /单片最大可沉积直径150 mm基片,竖直放置,10-25片/批次(根据工艺)特殊选项:最大200 mm,竖直放置,5-15片每批(根据工艺)156 mm x 156 mm 太阳能硅片3D 复杂表面衬底粉末与颗粒Roll-to-roll, 衬底最大宽 70 mm多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品工艺温度50 500 °C, 可选更高温度基片传送选件气动升降(手动装载)预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )半自动的机械装载集群系统的批量装载(Cassette-to-cassette )前驱体液态、固态、气态、臭氧源、等离子体12根独立源管线,最多加载6个前驱体源重量350 + 200 kg尺寸 (W x H x D)取决于选件最小 146 cm x 146 cm x 84 cm最大 189 cm x 206 cm x 111 cm选件集群工具,PICOFLOW 扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,超高真空兼容,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载)。验收标准标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

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PICOSUN™ ALD  P-200 Pro

PICOSUN™ ALD P-200 Pro

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: PICOSUN™ P-200 Pro
  • 产地:芬兰
  • PICOSUN P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。PICOSUN P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport。根据用户的需求,确保每时每(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有最好的性能,完全满足您的需求。澳门网上娱乐参数衬底尺寸和类型50 200 mm /单片最大可沉积直径150 mm基片,竖直放置,10-25片/批次(根据工艺)特殊选项:最大200 mm,竖直放置,5-15片每批(根据工艺)156 mm x 156 mm 太阳能硅片工艺温度50 - 500 °C, 可选更高温度基片传送选件气动升降(手动装载)预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )半自动的机械装载集群系统的批量装载(Cassette-to-cassette )前驱体液态、固态、气态、臭氧源、等离子体4根独立源管线,最多加载6个前驱体源重量790 kg尺寸 (W x H x D)160 cm x 80 cm x 240 cm选件集群工具,PICOFLOW 扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载),与工厂软件连接服务。验收标准标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,其他工艺可具体协商:其他工艺、应用特别验收标准如:--不均匀性--颗粒物含量--重金属污染--电学性能

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等离子体增强原子层沉积(PEALD)

等离子体增强原子层沉积(PEALD)

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: PICOPLATFORM ™
  • 产地:芬兰
  • 仪器简介: PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商,在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米澳门网上娱乐应用。PICOSUN为客户提供用户友好,可靠及多产的ALD工艺工具,提供独一无二的从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo,美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲顶级的科学机构、公司。 PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业澳门网上娱乐。Tuomo Suntola博士,于1974年发明了ALD澳门网上娱乐,是PICOSUN董事会的成员。我们的首席澳门网上娱乐官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲,PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD澳门网上娱乐最佳的合作伙伴。 Picousn公司创新的PICOPLASMA等离子体增强原子层沉积(PEALD)系统是基于先进的自由离子远程等离子源设计的,其性能已经得到世界范围内的诸多顶级研究团队的肯定。多种激发源(如氧、氢和氮等)配置能够最大化拓展ALD的工艺范围,尤其是低温沉积金属和金属氮化物薄膜。远程等离子源的使用既能确保提供足够多的活性源,同时将自由离子对衬底和薄膜的损伤降到最低。利用PICOPLASMA,即使沉积金属薄膜也不会发生短路现象。 PICOPLASMA源系统既可以安装在现有的PICOSUN ALD反应器上,也可以将整个PEALD组装为一个整体。它具有占地面积小、易维护和低运行成本等优点。通过预真空系统,PICOPLASMA还可以集成在PICOPLATFORM集群系统中,且具有高度的自动化。快速且稳定的等离子体传送使得在提高薄膜沉积速率的同时还保证了优异的薄膜均匀性(硅衬底沉积Al2O3和AlN薄膜的厚度不均匀性小于0.7 % )。除平面衬底外,PEALD沉积的薄膜在高深宽比的深孔中同样具有极高的保形性(1:48采用O2等离子体工艺 ,1:25采用氮或氢等离子体工艺)。总之,PICOPLASMA系统使得现有的ALD系统具有更优异的多功能,客户化,可扩展等性能。PICOPLASMA澳门网上娱乐参数 等离子体发生器和电源集成在一个紧凑的系统中,重量为22.2 kg 通过传送腔体与反应腔相连 商用射频等离子体发生器:功率在100 3000 W之间可调,频率在 1.7 3 MHz之间可调 电源: 208V,35A三相交流电,最大工作电流为16A 冷却水流量:5.71 lpm,温度< 35 °C 模拟电路(25帧 ) 和 RS-232(AE总线)接口 Chemraz O圈密封 发生器平均无故障时间:大于 100,000小时 系统符合以下标准:CE 73/23/EEC & 89/336/EEC, IEC/EN 61010-1, CSA C22.2 No. 1010.1, ANSI/ISA-82.02.01, NRTL/C, SEMI S2-0302, SEMI F47, EN 55011, EN61326 and 47 CFR

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PICOPLATFORM™真空集群系统

PICOPLATFORM™真空集群系统

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: PICOPLATFORM ™
  • 产地:芬兰
  • 仪器简介: PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商,在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米澳门网上娱乐应用。PICOSUN为客户提供用户友好,可靠及多产的ALD工艺工具,提供独一无二的从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo,美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲顶级的科学机构、公司。 PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业澳门网上娱乐。Tuomo Suntola博士,于1974年发明了ALD澳门网上娱乐,是PICOSUN董事会的成员。我们的首席澳门网上娱乐官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲,PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD澳门网上娱乐最佳的合作伙伴。 PICOPLATFORM真空集群系统延续了Picosun澳门网上娱乐一贯的可扩展性思想。该系统包括几个独立的ALD反应器和将它们连接的真空自动化控制单元,它可以在不打破彼此真空度的同时实现ALD反应器之间的样品传送。除此之外,利用该系统还可将ALD反应器与其它模块相连接(如前处理或其它沉积系统)。Picosun公司的第一台PICOPLATFORM系统于2008年开始建设,目前已经顺利通过了所有严格的测试程序。PICOSUN ALD拥有庞大的客户基础,并且Picosun正和世界领先的半导体工业真空自动化方案提供商布鲁克斯自动化(Brooks Automation)密切合作,这些使得PICOSUN ALD系统能够为任何工业客户提供最佳性能的澳门网上娱乐、最好的售后支持以及最大的生产能力。 新一代的PICOPLATFORM系统已经于2011年投入使用。与上一代系统相比,它同样兼容等离子体增强原子层沉积(PEALD)和超高真空(UHV)。不同的是,它将最大可处理衬底的尺寸从200 mm(8英寸)提升至300mm(12英寸),并且拓宽了沉积工艺范围,可沉积从普通的氧化物、氮化物和硫化物到金属(包括贵金属)和聚合物。除了在集成电路(IC)领域已经有了广泛应用外,PICOPLATFORM还兼容处理156 mm x 156 mm的方形衬底,实现了太阳能领域的应用突破。 PICOPLATFORM 200澳门网上娱乐参数 自动化盒-盒式(Cassette to cassette)基片装载机,可一次性处理25片硅片。它包括如下部件:装载腔,闸阀,冷却室,单硅片装载-卸载器以及装载-卸载腔专用的干式真空泵 一个备用窗口用于集成其它工艺设备传送腔和硅片传送机器手 每次在一片硅衬底上进行薄膜沉积 硅片传感器:极化反射光束传感,底部安装 硅片对准器。对准模式:旋转对准。对准时间:4.8 s 在装载和卸载衬底时反应腔与外部环境完全隔绝 泄漏率:1.0×10-8 Torr 最大的噪音水平:NC55 洁净度要求:1000级或更好的洁净室环境 最佳环境温度:10°C~30°C 最佳环境湿度:5%~80%(相对) 盒-盒式(Cassette to cassette)自动化系统:DeviceNet标准控制网络,触摸屏集群系统控制计算机。半自动化系统:PLC 控制的计算机用户界面,无盒式升降功能 符合E95标准的软件,可与主机连接 电源要求:单相200~240V,10 A 尺寸:868 mm x 1147 mm x 1392.5 mm(W x D x H);重量:708.5 Kg

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ALD原子层沉积设备-SVT

ALD原子层沉积设备-SVT

  • 品牌:
  • 型号: ALD-05
  • 产地:美国
  • 美国SVT公司ALD原子层沉积系统自1990年来薄膜淀积设备顶级制造商。拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制设备制造和工艺澳门网上娱乐的高度结合,为客户提供可靠的澳门网上娱乐服务实验室7台应用淀积设备生长出世界级的材料多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的顶级供应商。NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛。设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便。NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器。原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。可以直接升级至超高真空提供工艺演示以及工艺澳门网上娱乐服务为潜在客户提供免费样品测试。应用领域:High-K电介质纳米涂层MEMS光子晶体扩散阻挡层器件封装表面改性层澳门网上娱乐参数:为科研客户量身打造最先进的原子层沉积系统。提供4"、6"、8"、12"等多种尺寸的样品平台。针对客户的需求,提供多种输气设计。---可控真空度: 1 Torr to UHV---气道加热---气体快速进出---样品尺寸: 4in standard, optional 12in---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp主要特点:最安全的设计,多样化的配置,全方位的测试手段。精确的控制手段打造完美的成膜质量。强大的科研团队铸就领先的科技实力。---气体离子化---臭氧输送装置---石英振荡器---四重质量分光计---实时温度显示---椭偏仪---进样室

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Diener P300 聚对二甲苯涂层系统

Diener P300 聚对二甲苯涂层系统

  • 品牌:
  • 型号: P300
  • 产地:德国
  • 简介:聚对二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里纶(Parylene),是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称,它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性,主要有 Parylene N(聚对二甲苯)、Parylene C(聚一氯对二甲苯)和 Parylene D(聚二氯对二甲苯)三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备,可制成极薄的薄膜,主要用作薄膜和涂层,用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基,再导入成膜室在成膜物体表面冷凝并迅速聚合,得到均匀致密的聚对二甲苯薄膜。聚对二甲苯薄膜涂层特点:聚对二甲苯薄膜无色透明,膜厚0.1μm 时仍无针孔。它的化学性能稳定 ,有优良的机\电\热和生物相容性,对气体有良好的阻挡作用,还能提高被抱覆物的耐摸性,同时是一种能防潮\防霉\防酸碱\耐辐照的高品质防护涂层。聚对二甲苯薄膜涂层的优良特性,使其在许多高科技领域具有广阔的应用前景 。Parylene涂层在电子领域应用极其广泛,主要用于:电路板,半导体器件,集成电路,混合微电路, 混合微电路,电容器,微型电机和铁氧体;在光学和光电领域主要用于光学光电器件,复印澳门网上娱乐光电感光体,激光存储和记录器件;在生物医学领域用于人工假体,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天领域主要用在航空航天器上,用于绝缘保护。Diener P300聚对二甲苯涂沉系统澳门网上娱乐参数:涂层材料;聚对二甲苯 N,C,D涂层厚度:0.05~100μm加热炉:4kW/Max.850℃沉积室:Dia.700*H720mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.600mm*H600mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 65m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:40mm tubeDimensions:W2700*D2200*1600mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz尔迪仪器提供优质的售前售后服务.

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Diener P30 聚对二甲苯涂层系统

Diener P30 聚对二甲苯涂层系统

  • 品牌:
  • 型号: P30
  • 产地:德国
  • 简介:聚对二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里纶(Parylene),是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称,它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性,主要有 Parylene N(聚对二甲苯)、Parylene C(聚一氯对二甲苯)和 Parylene D(聚二氯对二甲苯)三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备,可制成极薄的薄膜,主要用作薄膜和涂层,用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基,再导入成膜室在成膜物体表面冷凝并迅速聚合,得到均匀致密的聚对二甲苯薄膜。聚对二甲苯薄膜涂层特点:聚对二甲苯薄膜无色透明,膜厚0.1μm 时仍无针孔。它的化学性能稳定 ,有优良的机\电\热和生物相容性,对气体有良好的阻挡作用,还能提高被抱覆物的耐摸性,同时是一种能防潮\防霉\防酸碱\耐辐照的高品质防护涂层。聚对二甲苯薄膜涂层的优良特性,使其在许多高科技领域具有广阔的应用前景 。Parylene涂层在电子领域应用极其广泛,主要用于:电路板,半导体器件,集成电路,混合微电路, 混合微电路,电容器,微型电机和铁氧体;在光学和光电领域主要用于光学光电器件,复印澳门网上娱乐光电感光体,激光存储和记录器件;在生物医学领域用于人工假体,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天领域主要用在航空航天器上,用于绝缘保护。Diener P30聚对二甲苯薄膜涂层系统澳门网上娱乐参数:涂层材料;聚对二甲笨 N,C,D涂层厚度:0.05~100μm加热炉:4kW/Max.700℃涂层腔体尺寸:D310*H500mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.150mm*H270mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 25m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:25mm tubeDimensions:W1400*D700*1700mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz尔迪仪器提供优质的售前售后服务.

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